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當前(qian)位置：首(shou)頁資(zi)料下(xia)載上海騰(teng)拔(ba)質構儀(yi)助力長安(an)大(da)學(xue)研(yan)究人員在(zai)高(gao)分(fen)子科(ke)學期刊(kan)發(fa)表論(lun)文

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發(fa)布(bu)時(shi)間：2020/7/28

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2025年(nian)12月31日(ri)，高(gao)分(fen)子科(ke)學期刊(kan)《Polymer Bulletin》（IF=2.014)在(zai)線發(fa)表了長安(an)大(da)學(xue)環(huan)境(jing)科(ke)學與(yu)工(gong)程學(xue)院(yuan)研(yan)究團隊題為“Fabrication of a photoelectric‑sensitive imprinting polymer by PPy‑cross‑linked Gel/CS complex and its comprehensive treatment of Cr(VI)”的(de)研(yan)究論(lun)文。

在(zai)該研(yan)究論(lun)文中，研(yan)究人員利(li)用上(shang)海騰(teng)拔(ba)Universal TA研(yan)究型質構儀(yi)用於(yu)測定印(yin)跡(ji)聚合(he)物的(de)機(ji)械強度。

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